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  气氛炉1400℃

  气氛炉1400℃用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：2790
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  气氛炉1100℃

  气氛炉1100℃用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：2767
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  GR.AF 箱式气氛炉

  GR.AF系列箱式气氛炉，具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达Z佳效果

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：4097