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  可控箱式气氛保护炉

  气氛炉1100℃用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：3668
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  高温烧结炉 1800℃

  GR.BF系列箱式高温烧结炉 1800℃，具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达Z佳效果。

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：3517
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  高真空气氛还原炉

  高真空气氛还原炉用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：3129
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  箱式真空气氛保护炉

  箱式真空气氛保护炉1600℃用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：3590
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  GR.TF系列真空管式气氛炉 1400℃

  GR.TF系列真空管式气氛炉 1400℃，具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达Z佳效果。

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：3261
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  箱式气氛保护炉

  箱式气氛保护炉1100℃适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：3847
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  箱式高温炉 1800℃

  GR.BF系列箱式高温炉 1800℃，具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达Z佳效果。

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：2328
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  箱式高温炉 1600℃

  箱式高温炉 1600℃具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达Z佳效果。

  更新时间：2025-10-23厂商性质：生产厂家浏览次数：2132